スパッタと同創業

JS-1600小型イオンスパッタリング装置は二極（DC）直流スパッタリング原理設計を採用し、操作が簡単で便利で、走査電子顕微鏡（SEM）サンプルの製造、非導体材料実験電極の製造に適している。

ユーザーは自分の必要に応じて異なる真空条件、スパッタ電流を自分で選択することができる。大サイズの真空チャンバ設計は、大サンプルのスパッタリング需要を満たす。純度99.999%の金ターゲットを標準装備し、高品質の金膜を得るために良い基礎を提供した。

JS-1600型ミニイオンスパッタ主な技術指標は以下の通り：

1.ターゲット（上部電極）：材料：金、直径：50 mm、厚さ：0.1 mm純度：99.999%

2、真空室：直径：160 mm、高さ：120 mm

3.試料台（下部電極）：スパッタ面積：直径：50 mm

4.作動真空：8×10^-2—2×10^-1mbar の

5.イオン電流計：50mA

6.デジタルタイマー：スパッタリング習慣に基づいて1回のスパッタリング時間を設定する。

7.電圧：-1600 DVC

8.機械ポンプ：2リットル/毎秒

9.作業室の作動媒介ガス：空気またはアルゴンガス、

10．マイクロ真空バルブ： アルゴンガス専用吸気口と微量ガス充填調整を備えている，φ3 mmホース接続可能。

11. 外形寸法：360mm×300mm×380mm

メモ：JS-600ミニイオンスパッタ適用可能なターゲット：金、白金、銀及び酸化亜鉛