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概要

NP−CMP化学機械研磨液製造装置は主にCMP（化学機械研磨液）（酸化ケイ素ナノ粒子に基づく研磨液、酸化セリウムナノ粒子の研磨液、炭化ケイ素化学機械研磨液、酸化アルミニウム系とシリカゾル系の超精密加工系化学機械研磨液を含む）の分散と各種マイクロナノ材料、新エネルギー材料、無機難燃剤などの破砕、分散、分級、改質などに用いられる。

製品詳細

NP-CMP化学機械研磨液調製装置主な用途CMP（化学機械研磨液）（酸化ケイ素ナノ粒子を用いた研磨液、酸化セリウムナノ粒子を用いた研磨液、炭化ケイ素化学機械研磨液、酸化アルミニウム系及びシリカゾル系を含む超精密加工系化学機械研磨液）の分散及び各種マイクロナノ材料、新エネルギー材料、無機難燃剤などの破砕、分散、分級、改質などが挙げられる。

NP-CMP化学機械研磨液調製装置テストされた工順は、すでにThe tested process route has achieved mass productionの量産を実現している、

インテリジェントな制御、リアルタイムモニタリング、完全なデータストレージ、直感的な表示図、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables；

回転速度調整可能、温度制御可能、超音波強度調整可能、タイミング可能Rotating speed adjustable， Temperature controlled， Ultrasonic intensity adjustable， Timed ；

操作が便利で簡潔、洗浄が容易Easy and simple operation、easy to clean。

NP-CMP化学機械研磨液調製装置パラメータ

アイテム	じっけんがた実験タイプ	せいさんがた製作タイプ
温度温度（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方法分散タイプ	れんぞくしき連続	れんぞくしき連続
材質材料品質	ガラス、ステンンレス鋼、チタンガラスまたはステンレス鋼	ステンンレス鋼、チタンステンレス鋼鉄
仕様仕様	ようせきによるボリュームに依存	定制カスタマイズされた
トラフィックフローレート	50~1000ml/分	カスタマイズ可能カスタマイズされた
ゆうでんたいねんどメディア粘度	≤104cP	≤104cP
かき混ぜる回転数振動速度	500〜3000rpm実需に応じて選択	500〜3000rpm実需に応じて選択
切り取り回転数振動速度	1400〜20000rpm実需に応じて選択	1400〜12000rpm実需に応じて選択
電源パワー	220V/50Hz	220V/50Hz、380V/50Hz
超音波パワー超音波パワー	200〜3000W	定制カスタマイズされた
超音波周波数超音波周波数	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
表示方法表示モデル	デジタル、LCDタッチスクリーンデジタルディスプレイ、LCDタッチスクリーン必要に応じて選択可能	LCDタッチパネルLCDタッチスクリーン
その他その他	温度、パワー調整可能温度、パワー調整 NP(ナベテクノロジー)はい1家（いえ）開発、製造、カスタマイズ微（び）ナノ、新エネルギー等の材料の反応、分散、生産ライン全体など設備及び洗浄設備のハイテク会社。会社の製品開発は「インテリジェント化、モジュール化、連続化、小型化」の設計原則に従い、「設計」を堅持する製造ユーザーのプロセス条件を満たす最適なデバイス」、「お客様に心から提供するソリューションとサービス」の理念を満たし、開発された一連のマイクロナノ材料合成、反応設備、マイクロナノメートル材料高効率分散装置はナノメートルに広く適用されているニ、アグ、Cu、FePO4 は、MnO2 の、ZrO2 は、TiO2、Mg（OH）2、シオ2、リン酸鉄、リン酸鉄リチウム、三元など多種微（び）ナノ材料の研究室からの研究、小試験、工業化規模の生産応用まで拡大してみる。次のものが含まれます。1、標準的な実験室で使用される反応設備、分散設備、攪拌設備、研磨設備、洗浄設備など、2、各種実験室設備をカスタマイズする、3、実験室プラントのカスタマイズ、4、カスタム中試験設備、5、量産設備など。

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